半導体工場跡地で発生したトリクロロエチレンとその分解生成物を、ホットソイル工法による原位置処理で安全かつ低コストに浄化した事例。
| 対象地の地歴 | 半導体工場跡地 |
| 浄化対象物質 | トリクロロエチレンとその分解生成物（親物質を含む5物質） |
| 法対応 | 特定施設の配置に伴う法第三条調査区域指定申請及び解除 |
| 実施工法 | ホットソイル工法 |
| 工期 | 180 日間 |
本件工事の概要ポイント
1.コスト削減の工夫
- 掘削除去では1立米あたり5〜10万円の費用がかかるところを、原位置処理により1立米あたり36,000円で対応。
- このコスパの高い原位置処理が工事の骨子。
2.室内浄化試験の実施
現地採取試料を用いて、以下の2点を確認。
- 熱分解による新たな有害物質の発生がないこと
- 揮発性有機化合物（VOC）が活性炭に吸着するかどうか、排気の分析
3.実施工での安全・環境対策
- 閉鎖型の反応槽を作成。排ガスは活性炭フィルターを通して排出し、排出孔でガス濃度をモニタリングしながら、活性炭を適宜交換。
- 作業員は高性能防塵マスクを着用し、労働災害防止に配慮。
4.埋戻しと品質管理
- 熱処理後の浄化土は1検体／900立米ごとに試料採取試験を実施。
- 試験後、埋戻し・転圧を行い、施工品質を確保。
5.工期と搬出
域外への汚染土搬出を行わず、予定通りの工期で完了。
